HTHP原位高溫/高壓三模式反應(yīng)池

在極端條件下進行的原位分析附件，三種測試模式

產(chǎn)品簡介

    高科技產(chǎn)品和現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)過程需要在極端溫度和壓力條件下的原位分析。Specac的高溫高壓池在全世界應(yīng)用非常穩(wěn)定，效果出色，能解決非常復(fù)雜的實驗

Specac高溫/高壓池有能力再創(chuàng)造這些條件，進行光譜分析樣品或模擬實驗室的過程。

樣品池設(shè)計用于高光學(xué)通量，并允許在多種目的分析配置、透射、反射和雙重之間進行簡單交換(見圖1，2，3)。

主要特征

ü   極端條件光譜儀--可編程控制溫度最高可達800℃ ,壓力范圍從真空到1000psi

ü   多目的分析儀--透射、鏡面反射和雙重模式

ü   優(yōu)化設(shè)計--允許在分析模式之間進行簡單交換

ü   安全和可靠的結(jié)構(gòu)--堅固耐用的結(jié)構(gòu)、經(jīng)過安全驗證的電子器件以及安全隔膜

應(yīng)用范圍

ü   組件失效分析

ü   分解研究

ü   原位反應(yīng)監(jiān)測

ü   表面反射率測試

ü   過程氣體分析，催化反應(yīng)

  典型的應(yīng)用如下：

q催化劑和氧化還原反應(yīng)，在特定溫度和特定壓力下氣體會在固體表面發(fā)生反應(yīng)，我們可以用紅外光譜記錄整個反應(yīng)過程。

q樣品在不同的物理狀態(tài)下具有多態(tài)性。

q固體燃料，即煤和油，在加熱下?lián)]發(fā)的蒸汽可以進行定性和定量分析。 

q高溫高壓對氣體/蒸汽的影響。 

q高溫高壓對固體物質(zhì)的透射和反射產(chǎn)生的影響。

特性及操作

高溫/高壓池可以使用透射、鏡面反射和雙重模式來分析固體樣品，以及靜態(tài)或流動傳輸模式的過程氣體。樣品溫度可高達800℃，樣品池可在真空到1000psi壓力下使用。

樣品池窗片和主體可獨立加熱和控制到高達200℃的溫度，可阻止內(nèi)部的材料凝結(jié)后附著到ZnSe窗片上。水冷上下部分阻止對光譜儀樣品倉內(nèi)的樣品過度加熱，維持表面在一個安全的溫度。

可通過更換樣品池主體上的光學(xué)加壓窗片組件并安裝到基板上來進行透射(最大樣品尺寸13mm)和鏡面反射模式切換。

簡單的重新定位樣品支架/加熱器組件，將加熱的樣品放到光束下的器皿中，即可獲得分解模式。樣品在不同溫度得到的氣體可以被分析出來。樣品池可為氣體分析或清洗提供穩(wěn)定的氣流。樣品池體積為80ml。

樣品池溫度使用一個可手動或通過計算機編程的專用的控制器來調(diào)節(jié)。設(shè)計結(jié)合了一系列重要安全特征。尤其是，樣品池的所有的電源供應(yīng)都符合加拿大標準協(xié)會(CSA)規(guī)定(30V或更低)，溫控器在熱電偶輸入上安裝有開路探測可阻止過熱。

樣品池本身安裝了一個安全隔板可防止偶然的過壓，如有需要，其可以安裝到通風櫥中或其他地方。標準的樣品池是耐用的316不銹鋼制成的，如有需要可以拆開進行徹底的清潔。

訂購信息

GS05850高溫/高壓池 不含反射附件

        包括:帶ZnSe窗片的光學(xué)器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，可

        編程高穩(wěn)定性溫控器。

        請指定光譜儀制造廠家和型號。

GS05855高級高溫/高壓樣品池系統(tǒng) 含反射附件

        包括:帶ZnSe窗片的光學(xué)器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，       

        反射模式楔形加壓窗片組件和反射模式基板，可編程高穩(wěn)定性溫控器。    

        請指定光譜儀制造廠家和型號。

GS05860反射模式套裝

        包括:可將GS05850 HTHP樣品池轉(zhuǎn)化成高級的HTHP樣品池(GS05855)           

        的部件套裝

GS05865密封套件備件

GS05867 ZnSe樣品池窗片備件 (經(jīng)過測試和認證的)

GS05868分解盤--備用件(2個)

GS05869"安全隔板"備件

可選項

GS05870 HTHP樣品池ESK

GS28000 RS232連接包

GS28001 USB連接包

GS28002 RS485連接包